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氩气净化方法
氩被用作制造单晶硅和多晶硅的保护气体。为了提高硅晶体的质量,如何选择高纯度的氩是制造硅晶体的一个课题。通过使用该装置,当氩气纯度中的氧含量小于1ppm,水分含量小于1pm时,所生产的单晶硅的氧和碳含量小于0.5ppm,这提高了单晶的使用寿命,能够满足要求,赢得了客户的满意和市场需求。
由于液态氩在汽化后未被净化,其氧含量一般为2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩超过这个范围,使用氩的客户不知道其质量,因此产品的质量经常受到影响。使用氩净化装置,无论氩原料气的质量如何,只要氩经过净化装置处理后进入结晶炉,纯度始终恒定。
通常,氧含量小于0.5ppm,水含量小于1ppm。这种稳定的氩可以保证晶体的质量。
氩气净化方法
第一种,直接脱氧。它是利用活性金属与氩中的氧气反应,消化氩中的氧,从而达到脱氧的目的。氩中的水通过分子筛吸收,使得氩中的含水量小于1ppm。
第二种,它使用吸气剂。在一定温度下,吸气剂可以吸收氮气、氢气、氧气、一氧化碳、二氧化碳、甲烷和其他气体。经过吸收处理后,氩的纯度可以达到六到九。这种保护气体更适合生产高纯度半导体单晶硅。
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