氩气净化方法

　　氩被用作制造单晶硅和多晶硅的保护气体。为了提高硅晶体的质量，如何选择高纯度的氩是制造硅晶体的一个课题。通过使用该装置，当氩气纯度中的氧含量小于1ppm，水分含量小于1pm时，所生产的单晶硅的氧和碳含量小于0.5ppm，这提高了单晶的使用寿命，能够满足要求，赢得了客户的满意和市场需求。

　　由于液态氩在汽化后未被净化，其氧含量一般为2ppm～5ppm。有时气体供应商提供的氩超过这个范围，使用氩的客户不知道其质量，因此产品的质量经常受到影响。使用氩净化装置，无论氩原料气的质量如何，只要氩经过净化装置处理后进入结晶炉，纯度始终恒定。

　　通常，氧含量小于0.5ppm，水含量小于1ppm。这种稳定的氩可以保证晶体的质量。

　　氩气净化方法

　　第一种，直接脱氧。它是利用活性金属与氩中的氧气反应，消化氩中的氧，从而达到脱氧的目的。氩中的水通过分子筛吸收，使得氩中的含水量小于1ppm。

　　第二种，它使用吸气剂。在一定温度下，吸气剂可以吸收氮气、氢气、氧气、一氧化碳、二氧化碳、甲烷和其他气体。经过吸收处理后，氩的纯度可以达到六到九。这种保护气体更适合生产高纯度半导体单晶硅。

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